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潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務的，潔凈手術(shù)室設計須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當然的。因此，在潔凈室設計時生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應該實事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍，嚴格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。
在生產(chǎn)工藝平面區(qū)劃時盡可能把相同級別的潔凈房間布置在一起，把潔凈度要求高的工序設置在上風側(cè)，把產(chǎn)生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆廢氣的工藝設備、容器盡可能放在潔凈區(qū)外，若必須放在潔凈區(qū)內(nèi)時應盡量采取密閉措施以減少粉塵和廢氣的排放量。一般情況下，凈化空調(diào)系統(tǒng)的能耗比一般空調(diào)系統(tǒng)的能耗大的多。其原因是兩者之間的負荷特點不同。就潔凈室，尤其是半導體工業(yè)潔凈室而言，其負荷特點是：由于排風量大造成新風量大，故新風處理所需冷量消耗大；送風量大，輸送動力消耗大，風機管道溫升高；生產(chǎn)設備的發(fā)熱量大，消耗冷量大。
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